▲图源：中微公司FX112财经网了解到，中微公司表示，PrimoD-RIE刻蚀设备被芯片制造商用于制造存储和逻辑器件。为优化产量而设计，PrimoD-RIE可以配置多达三个双反应台反应腔，每个反应腔既可以独立操作，又可以同时加工两片晶圆。自2007年PrimoD-RIE发布以来，中微公司陆续拓展了CCP刻蚀设备产品线。CCP刻蚀设备系列还包括双反应台刻蚀设备PrimoAD-RIE、单反应台刻蚀设备PrimoSSCAD-RIE、PrimoHD-RIE和刻蚀及除胶一体化的PrimoiDEA。据介绍，这些产品用于5纳米及以下工艺的多种应用。中微公司的刻蚀设备产品线还包括其他两款电感耦合低能等离子体（ICP）刻蚀设备和硅通孔（TSV）刻蚀设备。